高纯材料分析

项目介绍：

高纯材料的分析通常通过辉光放电来进行检测，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。灵敏性非常高，可分析70多种元素。

在金属分析领域中，辉光放电分析是浓度分析和表面分析最理想的手段。表面处理工艺过程，如表面渗碳硬化或渗碳热处理等，都可以通过分析被处理材料的表面和近表层区域实现质量控制。采用浓度分布分析功能可以精确地测量涂（镀）层厚度及化学成分。 

检测目标：

1、贵金属

金（3N,4N,4N5）、银（3N,3N5,4N）、铂（3N,3N5,4N）、钯（3N,3N5,4N）、铑（3N,3N5,4N）铱3N,3N5,4N）、钌（3N,3N5）

2、有色金属

钨条（3N,4N）、钽粉、铌条、铟（3N,4N）、钼条、镓（3N,4N,5N,6N）

3、其他高纯物质

石墨、碳、硅、碳化硅、陶瓷、锗、三氧化二铝、高纯二氧化锗锗（5N,6N）

高纯四氯化锗（5N,6N）

检测方法：

除去标准中指定方法外，我们还可用GDMS来对高纯物质进行成分分析

GDMS-辉光放电质谱仪

检测面积：40－200平方毫米（消耗50微米厚度的样品）

检测极限：ppb 级别  

检测范围：73种元素

粉末制样：高纯铟